推荐几本纳米级光刻机书籍

开始学习纳米级光刻机的小伙伴，可以由易到难看一下下面几本书，最后一本是ASML的光刻机之路，也可以大致了解一下。

1. 纳米集成电路制造工艺（第2版）》是2017年清华大学出版社出版的书籍，作者是张汝京等。这是国内首本关于纳米集成电路制造工艺的著作。半导体产业领军人物张汝京组织，顶级半导体代工厂一线科研人员编写，清华大学 华教授作序推荐。

2.书名：集成电路与光刻机
定价：58.0
ISвN：9787030657923
作者：王向朝,戴凤钊 等
版次：1
出版时间：2020-08

3. 《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》是2016年5月科学出版社出版的图书，作者韦亚一。

• 《光刻巨人：ASML崛起之路》是一本人民邮电出版社出版的图书，作者是[荷兰]瑞尼·雷吉梅克。《光刻巨人：ASML崛起之路》中，作者瑞尼·雷吉梅克带我们重返了晶圆步进光刻机的诞生地，和我们一起探索了ASML在全球获得令人瞩目的成功之根源所在。

原文链接：https://blog.csdn.net/qq_42450767/article/details/112466539?ops_request_misc=%257B%2522request%255Fid%2522%253A%2522167003265016782395312479%2522%252C%2522scm%2522%253A%252220140713.130102334.pc%255Fblog.%2522%257D&request_id=167003265016782395312479&biz_id=0&utm_medium=distribute.pc_search_result.none-task-blog-2~blog~first_rank_ecpm_v1~times_rank-9-112466539-null-null.nonecase&utm_term=%E4%B9%A6%E7%B1%8D%E6%8E%A8%E8%8D%90